Полупроводниковая промышленность

Шестиосевой робот
С быстрым развитием интеллектуальных, автоматизированных и информационных технологий глубокая интеграция робототехнических и лазерных технологий открыла беспрецедентные возможности для технологии лазерной резки роботами. Эта технология может не только значительно повысить эффективность производства, но и снизить затраты на рабочую силу, обеспечивая при этом качество обработки. Однако на практике шестиосные роботы сталкиваются с проблемами механической сложности и ограничений динамических характеристик, что напрямую влияет на точность и эффективность резки. В связи с этим заказчик активно ищет технологические прорывы и выбирает сотрудничество с Sinsegye для совместного преодоления отраслевых проблем. Оптимизируя системы управления оборудованием, они выводят технологию лазерной резки роботами на более высокий уровень.

Подвесной подъемник для транспортировки
Оборудование для верхнего подвесного транспорта (OHT) в полупроводниковой промышленности является основной автоматизированной системой обработки в процессе производства полупроводников, которая реализует интеллектуальную транспортировку ключевых материалов, таких как пластины и чипы, по надземным путям. Это устройство может не только повысить эффективность производства, но и эффективно сэкономить производственное пространство, сократить затраты и обеспечить прочную основу для автоматизации всей производственной линии. Однако с быстрым развитием полупроводниковой промышленности оборудование OHT сталкивается с рядом новых проблем и требований в отношении систем управления.

Эвтектический станок нанесения пластин
Эвтектический станок нанесения пластин - это ключевой инструмент для производства полупроводников, который очень важен в области сборки микроэлектронных компонентов.

Оборудование для нанесения тонких пленок
Оборудование для нанесения тонких пленок в основном отвечает за нанесение диэлектрических и металлических слоев на различных этапах процесса, включая CVD (химическое осаждение из паровой фазы), PVD (физическое осаждение из паровой фазы) и ALD (осаждение атомного слоя), среди которых ALD относится к подразделению CVD.

Система атомного осаждения ALD с двумя полостями
Атомно-послойное осаждение (ALD) - это технология получения тонких пленок, которые наращиваются слой за слоем на атомарном уровне. Идеальный процесс выращивания ALD включает в себя выборочное чередование и воздействие различных прекурсоров на поверхность подложки, где они химически адсорбируются и вступают в реакцию с образованием осажденных тонких пленок.